等(děng)離(lí)子(zǐ)清(qīng)洗機(jī)是利用(yòng)等(děng)離(lí)子體(tǐ)的(dí)活性來(lái)處(chǔ)理(lǐ)材料(liào)表(biǎo)麵(miàn)的(dí)設(shè)備(bèi)
。釋放(fàng)的等離子(zǐ)體是物(wù)質除固(gù)態，液態，氣(qì)態外的第(dì)四態(tài)，由(yóu)高能(néng)電(diàn)子(zǐ)，離子，自(zì)由基和(hé)中(zhōng)性粒子組(zǔ)成(chéng)，具有(yǒu)強(qiáng)的(dí)化(huà)學反(fǎn)應(yīng)活性(xìng)
。

它(tā)的基本(běn)工作原(yuán)理是基於(yú)這些活性(xìng)粒(lì)子與(yǔ)材料表(biǎo)麵接(jiē)觸時，高速粒子轟擊表麵(miàn)，將(jiāng)油(yóu)汙，灰塵(chén)，氧(yǎng)化物(wù)等(děng)汙染(rǎn)物(wù)剝離；  同時(shí)活性自(zì)由基與汙(wū)染物反(fǎn)應(yīng)，生成(chéng)揮發(fā)性(xìng)物質（如(rú)CO₂，H₂O）被抽走或吹走
。  而且等離子體還能(néng)改變(biàn)表麵(miàn)的化學(xué)結構(gòu)（如引入(rù)羥基，羧基(jī)），提高表麵(miàn)能，增(zēng)強(qiáng)後(hòu)續工(gōng)藝(yì)的(dí)附著力
。根(gēn)據工作(zuò)環境(jìng)，等離子清洗(xǐ)機一般分為兩種：

1. 低(dī)壓（真空）等離子清洗機：在密閉真空(kōng)腔體內(nèi)，通(tōng)過射頻電源激(jī)發氬(yà)氣，氧(yǎng)氣，氮氣(qì)等(děng)氣體(tǐ)產生(shēng)等(děng)離(lí)子(zǐ)體
。真空(kōng)環境使(shǐ)活性粒子(zǐ)更(gēng)易到(dào)達(dá)材料表麵，處理效果均匀且(qiě)深(shēn)入，適用於精密(mì)部件（如半導體芯(xīn)片，醫(yī)療植入(rù)物(wù)）
。  

2. 常壓等(děng)離(lí)子(zǐ)清(qīng)洗機：無需(xū)真空裝置，直(zhí)接(jiē)在(zài)大(dà)氣環(huán)境下(xià)通過等(děng)離(lí)子(zǐ)噴槍產(chǎn)生(shēng)等(děng)離子(zǐ)體(tǐ)
。操作便(biàn)捷(jié)，可(kě)集成到生產(chǎn)綫中實現連(lián)續作(zuò)業(yè)，適(shì)合(hé)大(dà)規(guī)模(mó)製造(zào)（如汽車內(nèi)飾，包裝薄膜(mó)）
。  

無論哪種類(lèi)型，其核(hé)心都是利用等離子(zǐ)體(tǐ)的(dí)活(huó)性(xìng)粒子(zǐ)與表麵(miàn)汙染物發生作(zuò)用(yòng)，實(shí)現(xiàn)清潔與改性(xìng)的(dí)雙重效果
。